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低温等离子消毒柜的四个消毒阶段

更新时间:2018-01-09

低温等离子消毒柜的四个消毒阶段

低温等离子消毒柜是目前医院等地使用较广的医用消毒设备,在使用中会出现各种各样的问题,因此在使用低温等离子消毒柜前应对它的各项操作做深入了解,避免误操作而引起的消毒不干净的情况。那么我们知道通常来说消毒设备的工作是需要经过几个阶段的,那么对于低温等离子消毒柜来说,它的消毒过程是什么样的呢?


低温等离子消毒柜的消毒过程分为四个阶段,下面一起来了解下吧。


1、真空阶段1:(一般为14-16分钟) 启动真空泵,消毒室内压力约4—5分钟有原来2700 Pa下降到<60Pa,进入真空保压/预等离子阶段,去湿,消毒预备,在低温等离子消毒柜的程序设置时间内压力一直维持在60Pa上下,高频射频源激发产生等离子体。


2、扩散阶段I:(一般为10分钟) 经汽化过氧化氢注入消毒室后迅速扩散,当低温等离子消毒柜的消毒室内压力上升至800~2300pa并维持在这个水平直到扩散到阶段I完成。    


3、真空阶段II:(一般为6-8分钟) H2O2本身具有较强的杀菌作用,在H2O2扩散过程中可杀死被处理物品表面的部分细菌病毒。


4、等离子阶段I:(一般为2分钟) 消毒室与网状不锈钢电极之间加上高频电压后,而低温等离子消毒柜的消毒室中的H2O2在高频电场的作用下,被分离为带电粒子,形成等离子体,等离子体形成过程中产生大量紫外线,直接破坏微生物的基因物质。


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